Generátor

UHV deposition system Ebeam-sputter

UHV depoziční systém (ebeam-sputter)



UHV depoziční systém:

byl použit pro depozici titan - zlato (ebeam)
Isdpfouhcn Nsx Afcstn
Depoziční jednotka Ebeam je odstraněna
Kryočerpadlo a předčerpávací čerpadlo je odstraněno
Loadlock:
pro vzorky kulaté 75 mm
Včetně ohřívače vzorků
450 l/s turbomolekulární čerpadlo (Leybold)
Procesní komora:
Rozměry: šířka 680 mm x výška 750 mm x hloubka 590 mm
Včetně stínění
Dveře s dvojitým oringem (částečně čerpané)
Ohřívače
Základní tlak nízký 10-7mbar, vysoký 10-8mbar
Elektronika:
Základní skříň (jednotka elektronického paprsku odstraněna)
Starý PLC (pro čerpadlo/ventilaci)
Plynová skříň/voda:
Různé ventily/reduktory průtoku pro plyn a vodu


Poznámka: Společnost D&M Vacuumsystems může systém modernizovat na nové procesy (E-beam nebo Sputter) včetně nové elektroniky a softwaru.



55 000,- EUR

Inzerát byl přeložen automaticky a mohou se vyskytnout chyby překladů.